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PHI 5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针
进行对比分析。4. 溅射深度剖析,可分析膜层结构和成分深度变化。5. 多种技术联用的超高真空分析腔室,可扩展UPS、IPES、AES、C60、GCIB等多种技术。6. 智能用户操作界面
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ESCALAB 250Xi X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针
Al K-AlphaX 射线光斑尺寸200 - 900 µm200 - 900微米可选配件MAGCIS、用于UPS的 UV 灯、用于AES/SEM的场发射电子枪、双阳极非单色化的 X 射线源、拼盘相机
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THETA PROBE全新平行角分辨XPS微探针
, or 100 mm wafer) 具备多种表面分析功能的能力, 系统可装配选件如双阳极X-射线源(用于大面积XPS分析)、场发射AUGER电子枪(AES/SAM)和 UV源(UPS),样品加热
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X射线光电子能谱仪(XPS)分析测试
服务详情X-射线光电子能谱(XPS)可以定性检测元素周期表中除H和He以外的几乎所有元素,可以提供有关固体表面和界面的化学信息(元素种类、相对含量及价态信息)。此外,通过角分辨法及Ar离子剥离
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岛津/Kratos X射线光电子能谱仪AXIS SUPRA+
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高性能X射线光电子能谱仪
Omicron产品所特有的模块化设计使系统扩展和升级非常简便。可选项包括原位升降温、AES、UPS、SAM、样品预处理……,即使是常规 XPS系统无法实现的要求,例如TPD(程序升温脱附
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SPECS NAP-XPS近常压X射线光电子能谱仪
近常压X射线光电子能谱仪(NAP-XPS)是一种反应条件下的原位表面分析技术,可以在较高温度下、一定压力(0.3 mbar左右)气体环境中对材料的表面进行研究。它的应用使得在近常压下对固-气界面进行
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PHI Quantera II X射线光电子能谱仪
Quantera II 扫描X射线光电子能谱仪(XPS)是Ulvac-Phi公司以在业界获得非常卓越成绩的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所zui新研发的XPS分析仪器,其
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硬X射线光电子能谱仪
全自动化的XPS系统采用一束扫描、聚焦、单色化的Al X射线源以及一束扫描、聚焦、单色化Cr X射线源用于高空间分辨率的化学态分析和HAXPES* ( 硬X射线光电子能谱分析)。Al单色化X
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EscaLab Xi+ X射线光电子能谱仪
聚焦 ●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调 设计灵活 ●ISS、ARXPS与REELS为标准配置 ●多功能进样室为标准配置 ●UPS和EDS/AES/SEM
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